电铸是使用金属的电解沉积原理来准确复制某些庞大或特殊形状工件的特种加工方法主要用来准确复制微细、庞大和某些难于用其他方法加工的特殊形状模具及工件等。以预先按所需形状制成的原模作为阴极用电铸质料作为阳极一同放入与阳极质料相同的金属盐溶液中在电解作用下原模表而逐渐沉积出金属电铸层到达所需的厚度后从溶液中取出将电铸层与原模分散便获得与原模形状相对应的金属复制件。

(3)微纳米压印

微纳光学现有技术与特点

部门摘自微纳光学制造业技术特点剖析

微纳光学是现在新型光电子工业的重要生长偏向在光通信、光互联、光存储、半导体器件等诸多领域发挥了庞大的作用。

光刻是半导体技术中晶圆制造的关键工艺通过外貌清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、瞄准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀、检测等一系列生产步骤将晶圆外貌薄膜的特定部门除去在晶圆外貌留下带有微图形结构的薄膜。这些所有结果都必须建设在一片洁净的晶圆上。可想而知半导体清洗设备就发挥了很是大的作用。海内也是有多家湿法清洗设备厂商我公司就是一家湿制程设备专业制造商主要从事半导体湿制程设备的设计、研发、生产及销售。现在光刻技术通报图形的尺寸限度缩小到亚微米级已从通例光学技术生长到应用电子束、X射线、微离子束、激光等新技术;成为一种细密的微细加工技术。

微纳光学制造技术接纳光刻技术在激光原版上形成具有微纳尺寸的细微结构即可展现出各种光学效果。

(1)光刻

微纳光学制造技术以LIGA工艺为基础主要经由光刻、电铸制模和微纳米压印三个主要工艺步骤。

微纳光学制造技术接纳电铸工艺将激光原版复制成事情版即制作工业化生产所需的模具。

微纳光学的结构技术是指通过将微纳光学结构引入到相关的质料中制成新型光学功效器件。微纳光学就是使用微结构质料作为光学元件的光学分支。它的结构的设计和制造是微纳光学技术生长的关键性问题所以微纳光学成为了新型光电子工业生长的关键性突破。它的主要优点就是能在局域电磁相互作用的基础上实现许多全新的功效成为21世纪国家不行或缺的关键科学和技术。

微纳光学产物制造接纳微纳米压印技术。将电铸制成的金属模具安装到微纳米压印设备上通过热压或者冷压方式在薄膜质料表而压制形成微纳结构。微纳米结构包罗浅纹结构和深纹压印;微纳米压印设备包罗平压平和卷对卷压印。卷对卷压印技术为微纳光学薄膜提供了高效率、低成本的制造手段。